(旧)常压化学气相沉积设备

ALD氧化铝背钝化机台

C-1淀积炉

CVD

IC淀积炉

PECVD

PECVD 减反射膜制造设备

PECVD5层镀膜设备

PECVD减反射膜制造设备

PECVD化学气相沉积设备

PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统)

PECVD电浆辅助气化沉积机(旧)

PECVD系统

TCO化学气相沉积系统

介电层沉积机台

介电层沉积机台(旧）

低压化学气相沉积氧化锌镀膜系统

低压化学气相沉积装置

低压化学气相沉积设备

低压化学气相淀积设备

低压化学气相淀积设备（旧）

低压化学气象沉积设备

低压硅生长设备(化学气相沉积设备)

减反射膜制造设备

减反射膜制造设备(新格拉斯牌)

减反射膜化学气相沉积炉

制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置

化学机械抛光机(旧)

化学气相沉淀机

化学气相沉积仪

化学气相沉积台(旧)

化学气相沉积台（旧）

化学气相沉积干式特气处理装置

化学气相沉积机

化学气相沉积机反应腔体

化学气相沉积机台MOCVD

化学气相沉积机（旧）

化学气相沉积炉

化学气相沉积热湿式特气处理装置

化学气相沉积系统

化学气相沉积系统MOCVD SYSTEM

化学气相沉积腔

化学气相沉积装置

化学气相沉积装置(CVD)(旧)

化学气相沉积装置(旧)

化学气相沉积设备

化学气相沉积设备(旧)93年产.已用24年.还可用6年

化学气相沉积设备(旧)PRODUCER SE APF

化学气相沉积设备/3880-00239

化学气相沉积设备/LAM牌/Vector Extreme

化学气相沉积设备/NOVELLUS/在

化学气相沉积设备/WJ牌

化学气相沉积设备/半导体器件生产用

化学气相沉积设备（旧）

化学气相淀积设备(旧)01年产.已用16年.还可用9年

化学气相淀积设备（旧）

化学气象沉积装置

单晶片化学气相沉积-钨沉积系统/实验室用

卧式低压化学气相沉积炉管系统;制造器件沉积薄膜;低压化学气相沉积;SVCS

卷对卷化学气相沉积装置R2R CHEMICAL VAPOR

原子层氧化硅薄膜沉积设备

原子层沉积仪

原子层沉积系统

原子层沉积设备

原子层累积氮化硅(碳)生长设备(化学气相沉积设备)

原子层累积氮化钛生长设备(化学气相沉积设备)

团簇式多腔体等离子增强化学气相沉积系统

垂直化学气相沉积装置(旧)

外延化学气相沉积机(旧)

外延炉

外延炉(旧)

多功能背钝化镀膜一体机

多晶硅磷掺杂炉管机台(旧)

太阳能减反射膜制造设备

太阳能电池镀膜装置(旧)

射频发生器(CVD装置用)1009#

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射频发生器CVD装置用

射频等离子增强化学气相沉积系统

微波辅助化学气相沉积系统

旧低压化学气相沉积装置,原价JPY4000000/台

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有机金属化学气相沉积台(旧)MOCVD

有机金属化学气相沉积炉

材料沉积系统(实验室用)

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气体混合柜成套散件/RESI

水平化学气相沉积装置(旧）

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表面处理皂化线(旧)原值USD47080.97928

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酸化膜成长装置

金属有机化合物气相淀积法设备

金属有机化合物气相淀积法设备/成套散件

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金属有机物化学气相沉淀炉

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钨膜化学气相沉积设备

镀膜机