ITO溅射设备

ITO电子束蒸镀系统

Metal电子束蒸镀系统

PAD蒸镀机

PID11-TCO镀膜机

PVD

PVD溅射台

PVD磁控溅射镀膜线

RPD镀膜机

VTD蒸发源

WB3100焊线机

丹顿真空磁控离子溅射台溅射成膜

二氧化碳发泡机

介质膜蒸镀机上的镀锅

光学薄膜镀膜机

光学镀膜机

光学镀膜机OPTICAL THIN FILM COATER

全自动溅射机

全自动磁控离子溅射仪

冷溅射仪

分子束外延系统

分子束外延系统（半导体专用）

制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置

前电极磁控溅射沉积系统

半导体PVD真空溅射镀膜机/2006年产/七成新

半导体行业用金属溅射设备

半导体金属离子PVD蒸发系统/2004年产/七成新

卷对卷真空溅射机

喷胶机

多功能离子束联合溅射系统

射频发生器(PVD装置用)1007#

射频发生器(PVD装置用)1008#

射频发生器(PVD装置用)1010#

射频发生器(PVD装置用)1012#

射频发生器(PVD装置用)20#

射频发生器(PVD装置用)26#

射频发生器(PVD装置用)300#

射频发生器(PVD装置用)301#

射频发生器(PVD装置用)302#

射频发生器(PVD装置用)303#

射频发生器(PVD装置用)305#

射频发生器(PVD装置用)306#

射频发生器(PVD装置用)4001#

射频发生器(PVD装置用)4002#

射频发生器(PVD装置用)4003#

射频发生器(PVD装置用)4012#

射频发生器(PVD装置用)7001#

射频发生器(PVD装置用)7002#

射频发生器(PVD装置用)7003#

射频发生器(PVD装置用)7005#

射频发生器(PVD装置用)7006#

射频发生器(PVD装置用)7007#

射频发生器(PVD装置用)7009#

射频发生器(PVD装置用)7010#

射频发生器(PVD装置用)7011#

射频发生器(PVD装置用)7013#

旧溅射装置/七成新

溅射仪/Axcela 4

溅射台

溅射台（物理气相沉积设备）

溅镀机

溅镀系统

物理气相沉积仪

物理气相沉积系统ITO COATING EQUIPMENT

物理气相沉积装置

物理气相沉积设备

物理气相沉积设备/APPLIED牌

物理气相沉积设备/半导体集成电路制造

物理气相沉积设备/在硅片表面

物理气相沉积设备主机AL PAD DEP SYSTEM

电子束蒸发台

电子束蒸发镀膜设备

电子束镀膜机（物理气相沉积装置）

真空蒸发台

磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料的沉积,并可控制沉积膜层的速率和厚度;DE

磁控溅射系统（N面）

磁控溅射系统（P面）

磁控溅射系统（镀膜专用）

磁控溅射设备(旧,物理气相沉积装置)ALCATEL COMPTECH

磁控溅射镀膜机

离子束辅助沉积镀膜系统;辅助红外器件镀膜;沉淀金属;牛津

端导真空溅射镀膜机

等静压机

蒸镀机(旧.2006年产)

金属溅射机(旧.原值总价USD3300000/台)

金属溅镀机(旧.2008)

金属蒸镀机用金属镀锅

金属钼镀膜设备/品牌Simple/型号ROCS PVD 1200 Mo

金属镀膜系统

镀膜机

镀膜机用晶片盖板

镀膜设备

高功率脉冲磁控溅射沉积系统

高真空电子束蒸镀系统（物理沉积/实验室用）

高真空蒸着镀膜设备