查看新版本: 8486302100

hscode
商品描述
查看相关内容
8486302100
CVD化学气相沉积系统
详情
8486302100
制造平板显示器化学气相沉积装置
详情
8486302100
制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD)
详情
8486302100
化学气相成膜机
详情
8486302100
化学气相沉积修补设备
详情
8486302100
化学气相沉积系统
详情
8486302100
化学气相沉积薄膜封装机
详情
8486302100
化学气相沉积设备
详情
8486302100
化学气相沉积设备/晶片集成电路生产用/DJ-1206VN-DF
详情
8486302100
化学气相沉积设备/晶片集成电路生产用/DJ-1236VN
详情
8486302100
原子层沉积薄膜封装机
详情
8486302100
炉管式化学气相沉积炉(CVD)-二吋沉积炉
详情
8486302100
等离子化学气相沉积设备
详情
8486302100
等离子增强化学气相沉积系统;实验室薄膜制备;AIXTRON Ltd;固体样品气化后沉积在固体基体表面,用于薄膜制备
详情
8486302100
薄膜化学气相沉积设备
详情
londing...
X