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钽溅射靶材组件
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带背板溅射钽靶材组件(钽靶＞99%)
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带背板溅射钽靶材组件(钽靶材＞99%)
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氧化铟锡溅射靶材组件(带背板)
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氧化铟锡溅射靶材组件/带钛背板
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带背板的ITO溅射靶材组件(加工费)
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带背管的ITO溅射靶材组件(加工费)
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铝-硅-铜靶(带背板的溅射靶材组件)
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带背板溅射钛靶材组件（钛靶＞99%)
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带背板的溅射靶材组件/SI 硅旋转靶
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带背板溅射铜靶材组件(铜靶材＞99%)
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钛靶(Ti＞99%)(带背板的溅射靶材组件)
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钴靶(带背板的溅射靶材组件)(Co＞99%)
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带背管的钼溅射靶材组件（加工费）
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氧化铟锡溅射靶材组件/带精炼铜背板
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氧化铟锡溅射靶材组件(带背板)(料件费)
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带背板的溅射靶材组件(彩膜用氧化铟锡)
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带背板的溅射靶材组件(阵列用氧化铟锡)
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制作陶瓷电路板用带背板的溅射靶材组件
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磁控溅射镀膜机镀膜用带背板的溅射靶材组件
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铝-铜靶(带背板的溅射靶材组件)(A1>99%.Cu≤1%）
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带背板的溅射靶材组件(彩膜用氧化铟锡)加工费
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带背板的溅射靶材组件(阵列用氧化铟锡)加工费
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带背板溅射铝-铜靶材组件(铝-铜靶.AL＞99%.Cu≤1%)
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带背板的溅射靶材组件/银靶(背板176.4*106MM重1.67KG)
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磁控溅射镀膜机镀膜用带背板的二氧化硅靶材组件
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带背板溅射铝-硅靶材组件（铝-硅靶Al＞99%，Si≤1%）
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带铜背板的氧化铟锡靶材组件ITO靶材
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带铜背板的氧化铟锡靶材组件ITO TARGET
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旋转靶材电动机组件(用于制造液晶显示
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旋转靶材电动机组件(用于制造液晶显示屏)
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旋转靶材电动机组件(用于制造液晶显示屏的
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旋转靶材电动机组件(用于制造液晶显示屏的物
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旋转靶材电动机组件(用于制造液晶显示屏的物理
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旋转靶材电动机组件(用于制造液晶显示屏的物理沉积设备,包含马达,皮带,旋转盘等,功能是通过马达配合皮带旋转带转靶,其本身没有镀膜功能,其中马达为多相交流式,功率不超过750W,材质为不锈钢制,非发电机.品牌:BAUER)
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铝-硅靶(无背板);溅射用靶材
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氧化锌氧化铝溅射靶材配件/替换节
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集成电路用溅射靶材分析检测系统(旧)
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溅射靶材/带背板/物理气相沉积设备专用零件
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溅射靶材(旧)/带背板/物理气相沉积设备专用零件
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多靶磁控溅射镀膜系统;将靶材上的材料均匀沉积到器件上;利用等离子体溅射原理,用于半导体器件;丹顿
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钽靶/状态:整片的圆形靶材/成分含量:大于99.995%
